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四氟化碳、三氟甲烷、三氟化氮電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體


蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。

作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值幾乎為0，而且能結(jié)束納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)范疇內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！

2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技藝。

紐小編帶大家一同看看C4F6是怎樣提純的呢？購買電子氣體，就找紐瑞德！咨詢電話：400-6277-838

在查閱了很多資料，理解了含氟二烯烴C4F6物化性質(zhì)后，項目組開端檢驗C4F6提純研討。項目組首先探求了C4F6分子價鍵與電子云密度散布，計算了C4F6及其無機(jī)雜質(zhì)分子特性，接著搜集重要數(shù)據(jù)，停止軟件模仿。終于，在經(jīng)過對C4F6及其雜質(zhì)物性深化研討分析后，項目組提出了立異的提純辦法。

隨著項目使命的不時推進(jìn)，困難也層出不窮。

其一，在原料雜質(zhì)的分析定性成績上，由于新化合物沒有規(guī)范譜圖，技藝人員與分析專家一同揣摩，尋覓其中的不同，終于判定首要雜質(zhì)，為實驗展開掃清了阻礙。
其二，C4F6是含氟烯烴，無機(jī)雜質(zhì)與產(chǎn)品構(gòu)造相近，分別難度大。為了占領(lǐng)該難題，項目組多次組織專題討論會，張建君總經(jīng)理停止翔實的技藝指點，從C4F6本身物化性質(zhì)到純化工藝操作，詳細(xì)分析并修正相應(yīng)的實驗方案。
其三，針對無機(jī)雜質(zhì)分別難度大的成績，項目組停止了很多的驗證實驗，調(diào)查并重復(fù)優(yōu)化了上百個配方，常常任務(wù)到深夜，最終選出了適用的高效吸附劑。
一同，在閱歷試驗室改造場所受限、設(shè)備提純功能下降等一系列突發(fā)狀況下，項目組仍不時調(diào)整設(shè)備參數(shù)、完善提純工藝，結(jié)束了既定的C4F6提純技藝開發(fā)使命，并停止了電子級C4F6樣品消費。C4F6是一個附加值高，商業(yè)前景寬廣的新品，國際不少同行都對其展開了研討。



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