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四氟化碳：微電子工業(yè)中的必備刻蝕氣體


四氟化碳：微電子工業(yè)中的必備刻蝕氣體
四氟化碳

四氟化碳是微電子工業(yè)中使用最廣泛的等離子燭刻氣體，其高純度與四氟化碳
高純度與高純度氧混合。

1. 可廣泛應用于燭刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢膜材料。對于硅和
二氧化硅系統(tǒng)，通過調(diào)整兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在二
氧化硅薄膜上刻蝕多晶硅格柵非常有用。

2. 它還廣泛應用于電子設備表面清潔、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、
低溫制冷、泄漏檢測劑、宇宙火箭控制姿勢、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等。

3. 由于其強大的化學穩(wěn)定性，CF4還可以應用于金屬冶煉和塑料工業(yè)。

4. 四氟化碳具有很好的溶解氧，因此被科學家用于超深度潛水試驗，而非普通
壓縮空氣。現(xiàn)在，它已成功地在275米至366米的深度內(nèi)，老鼠仍能安全地擺脫
危險。

儲存四氟化碳
1. 根據(jù)國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局《氣瓶安全監(jiān)督條例》的規(guī)定，使用和檢驗氣瓶。
2. 氣瓶不能靠近火源，不能暴露在陽光下，與明火的距離一般不小于10米，
氣瓶不能碰撞。
3. 氣瓶嚴禁沾油。
4. 氣瓶內(nèi)的氣體不能全部耗盡，應留下不小于0.04MPa的剩余壓力。

四氟化碳鋼瓶包裝在鋼質(zhì)無縫氣瓶中，產(chǎn)品純度為99.999%。多年來，武漢紐
瑞德氣體公司一直專業(yè)供應四氟化碳。紐瑞德是購買四氟化碳的首選。

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